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全球光刻机产业发展态势 2019
摘要
从市场格局分析,目前全球光刻机处于三分天下,高端市场一家独大的现状。国外高精度的IC芯片光刻机长期由ASML、尼康和佳能三家把持。中国光刻机处于技术领先的是上海微电子,另外中科院光电技术研究所也研制出了世界上首台超分辨紫外光刻机。从产业链分析,光刻机目前处于上游供给不足,下游需求强劲的状态。其中上游产业主要包括光刻胶、硅片、光源、光学镜片等,下游产业包括半导体芯片和面板显示。从光刻机历史演变分析,光刻机经历了5代产品的发展。从光刻技术与工艺分析,光刻分为正性光刻和负性光刻两种基本工艺,区别在于两者使用的光刻胶的类型不同;光刻技术分为普通光刻技术和双重图案技术。从光刻机型号及产品分析,光刻机主要有ASML公司的XT、NXT和NXE系列产品,尼康公司的NSR和FX系列产品,佳能公司的FPA系列产品,以及上海微电子的SSA、SSB和SSC系列产品。从市场状况分析,2018年全球光刻机出货逾600台,其中ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货374台;从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货134台,其中ASML出货120台,占有9成的市场。全球光刻机主要生产商有荷兰的ASML、日本尼康和佳能公司,另外还有其他公司包括上海微电子和美国Ultratech公司。
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